《电镀与涂饰》
1 材料与方法
1.1 试验原料
1.2 试验装置
1.3 试验方法
1.4 分析方法
2 结果与讨论
2.1 不同条件下阴极的分形生长规律
2.2 物相分析
2.3 XPS分析
2.4 红外分析
2.5 微观形貌分析
3 结论
文章摘要:为厘清铜电沉积过程中枝晶生长规律,探讨了各因素如有无添加剂(盐酸、十二烷基硫酸钠和明胶)、电压、Cu2+浓度等对铜面电极电沉积过程中枝晶生长的影响。结果表明,无添加剂时,增大电压和Cu2+浓度,都有利于增加铜枝晶数量;高电压,尤其是电压为25 V时,铜枝晶现象十分显著。盐酸能促进铜枝晶分形,而十二烷基硫酸钠、明胶可以抑制铜枝晶生长现象。
文章关键词:
论文分类号:TF811
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