电镀与涂饰

三维封装硅通孔铜互连电镀工艺研究进展 

来源:电镀与涂饰 【在线投稿】 栏目:期刊导读 时间:2021-05-02
综述了近年来芯片三维封装中硅通孔(TSV)互连技术中电镀铜工艺的研究进展及存在的问题,指出TSV互连技术今后的研究方向。

上一篇:片式多层陶瓷电容器电镀失效分析与控制
下一篇:没有了