《电镀与涂饰》
三维封装硅通孔铜互连电镀工艺研究进展
来源:
电镀与涂饰
【在线投稿】 栏目:
期刊导读
时间:2021-05-02
综述了近年来芯片三维封装中硅通孔(TSV)互连技术中电镀铜工艺的研究进展及存在的问题,指出TSV互连技术今后的研究方向。
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